介紹
     自20世紀以來（lái），合金一直被用於骨科醫學，並因其力學（xué）和物（wù）理性能而被用於牙科醫學（xué）。另一方麵，由於經濟原因，珍貴的合金（如金合金）很少被使用，而非珍貴的合金在牙科領（lǐng）域的使用逐漸增加（jiā）。非珍貴合金的主要優點是表麵被動氧化（huà）層，在口腔內提供生物相容性和耐腐（fǔ）蝕（shí）性[1]。口（kǒu）腔的酸性介質和唾液成分的變化影（yǐng）響口（kǒu）腔[2]中牙科合（hé）金表麵的行為。
     當材料作為修複結構[3,4]引入口腔時，唾液中（zhōng）釋放的（de）產物代表了腐蝕問題。用於鑄造（zào）修複零件的商業牙科合金具有較高（gāo）的生物相容性性能[5]。
     cocr基合金因（yīn）其（qí）耐腐蝕（shí）性和與牙科陶瓷作為美學組件[6]的（de）兼容性而被用於（yú）牙（yá）科領域。一開始，cocr基合金（jīn）含有鉬（鉬），為鑄造提供了良好的（de）材料流動性，但隨著時間的推移（yí），它被取代或與W（狼（láng）屑/鎢）結合，在鑄造合金後增加了（le）非常好的防腐性能[7-9]。
    根據（jù）文獻，人工唾液(AS)可以用林格爾溶液取（qǔ）代，用於測試各種合金的（de）腐蝕行為。可（kě）在室溫下保存，pH值為6.8。該解決方案也用於實（shí）驗室測試產（chǎn）品，也用於（yú）藥物治（zhì）療[10]。本研究的目的是測試人工唾液中五種（zhǒng）商業cocr基合金(W和Mo)氧（yǎng）化後的電化學行為和表麵表征。
   
     材料和方法
     五種商用cocr基合金的成分見表1。從牙科市場購買的基於cocr的合金被轉化為盒式樣品（pǐn）盤，阿裏膜(A)為0502cm²，圓柱形（xíng）支架進行電接觸。表1中列為0-S的合金（占0%wt的合金樣品。W)，8-S(鑄造合金樣品占8%。W)，10-S(鑄造合金樣品占10%。W)，15-S(鑄造合（hé）金樣品占15%。W)和16,4-S(鑄造合金樣品占（zhàn）16.4%。對（duì）W)進行分析。將罐式樣品浸入林格（gé）溶液中，組成為氯化鈉8.6g、0、33g氯化鈣（gài）、0、3g氯化鉀、平衡水。
 
表（biǎo）1：不同（tóng）Mo和W含量（liàng）的CoCr基合（hé）金的化學成（chéng）分（wt%）。

 
     這些碎片是作為電化學電池中作為工作電極(WE)進行電化（huà）學行為測試的。分析采用電化學實驗室（shì）VoltalabPGZ100進行，結果采用伏爾體4專用軟件進行處理。製備了cocr基合金工作電極作為鑄（zhù）造盤。此外，我們在23ºC處使用了參考（kǎo）電極(RE-Ag/AgCl)、反電極(CE-Pt)和（hé）電解液(硫酸0,1N)。該單元格（gé）（圖（tú）1）與VoltalabPGZ100連接。

圖1：含20mlRinger溶液(a)的電化學電（diàn）池、電極插入的製備(b)、工作過程中的電化學電池(c)。
 
      在人（rén）工唾液中對（duì）CoCrMo合金(CoCrMoS)、CoCrMoW合金（8S、10S）和CoCrW合金（15S、16、4S）進行了測試。第一次測試是為了測量合金在電（diàn）解液體中形成表麵無源層的趨（qū）勢，在開路電位(OCP)中，作為防腐反應。測量開路電位120分鍾，評估曲線方麵和電位（wèi）達到0mV值的趨勢。
 
     其次，對（duì）鑄式樣品（pǐn）進行噴砂，進行機械加工，得到（dào）鏡（jìng）麵。樣品表麵在P300(IvoclarCo.)可編程（chéng）的具有真空設置容量的烘箱中被熱氧化（huà）。然後（hòu），製備殼（ké）式合金樣品進行掃描電子顯微鏡（jìng）(SEM)。
     
      結果
     將CoCrW合金和CoCrMoW合金（jīn）的CoCrMo合金開路電位（wèi）曲線與其他兩條交叉電流曲線進行了比較（圖2）。
圖2：5種W和Mo的牙（yá）科商業cocr基合金的開路電位測量。
 
     所有cocr基合金的開路電（diàn）位曲線範圍從負電位到走向正值的趨勢。每種（zhǒng）合金在120分鍾（zhōng）內的電勢的變化顯示出線性和抗腐蝕趨勢。在120分鍾內施加（jiā）的電勢（shì）(mV)值如表2所示。
 
表（biǎo）2：CoCr合金表麵（miàn）的電（diàn）勢。

 
      在捕（bǔ）獲的掃描（miáo）電鏡圖像中可以看到氧化物被動層形成的不同方麵（圖（tú）3-5）。掃描電鏡（jìng）圖像揭示了三種不同（tóng）CoCr基合金氧化後產生的氧（yǎng）化物被動層的密度和形貌。
圖3：掃描電鏡圖像：0-S合金上的氧化物層（céng）。a.CoCrMo–0%wt.W(x20000)；b.CoCrMo–0%wt.W (x50000);
圖4：掃描電鏡圖（tú）像：10-S合金（jīn）上（shàng）的氧化物（wù）層。a.CoCrMoW–10%wt.W(x20000)；b.CoCrMoW–10%wt.W (x50000);
 
圖5：掃描電鏡圖像：15-S合（hé）金上（shàng）的（de）氧（yǎng）化物層。a.CoCrW–15%wt.W(x20000)；b.CoCrW–15%wt.W (x50000);